Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/215210| Title: | Закономерности формирования тонких металлических пленок на стекле при ионно-ассистированном осаждении |
| Other Titles: | Regularities of formation of thin metal films on glass substrate upon ion-assisted deposition / I. I. Tashlykova-Bushkevich, Yu. S. Yakovenko, I. А. Bushkevich, D. R. Gagua, A. S. Tsal |
| Authors: | Ташлыкова-Бушкевич, И. И. Яковенко, Ю. С. Бушкевич, И. А. Гагуа, Д. Р. Цаль, А. С. |
| Keywords: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
| Issue Date: | 2018 |
| Publisher: | Минск : БГУ |
| Citation: | Материалы и структуры современной электроники : материалы VIII Междунар. науч. конф., Минск, 10–12 окт. 2018 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2018. – С. 117-122. |
| Abstract: | Методами растровой электронной микроскопии (РЭМ) и атомно-силовой микроскопии (АСМ) исследовано влияние условий ионно-ассистированного осаждения на микроструктуру поверхности тонких металлических пленок из молибдена на стеклянные подложки. Получено, что при пассивном нанесении Mo с увеличением времени осаждения покрытия с 3 до 9 ч шероховатость поверхности увеличивается от 1,05 до 1,66 нм и уменьшается при приложении потенциала, снижаясь до 0,33 нм при осаждении в течение 5 ч при U = 10 кВ. Установлена корреляция характера изменения шероховатости пленок и среднего диаметра, объемной доли и удельной поверхности границ частиц микрокапельной фракции в зависимости от режима и времени нанесения покрытий. Построение гистограмм распределения высот и впадин рельефа поверхности позволило провести количественный анализ изменения микроморфологии пленок в процессе их роста. |
| Abstract (in another language): | The effect of ion beam assisted deposition conditions on the surface microstructure of thin metal films of molybdenum on glass substrates was studied by scanning electron microscopy (SEM) and atomic force microscopy (AFM). For Mo deposition without ions, it was found that the surface roughness increases from 1.05 to 1.66 nm with increasing deposition time from 3 to 9 h and decreases to 0.33 nm upon ion-assisted deposition using Mo ions for 5 hours at U = 10 kV. A correlation between the changes in the film roughness and the average diameter, volume fraction, and specific surface area of boundaries of microdropletsis established depending on operating conditions and deposition time. Plotting of surface height/cavity histograms allowed performing a quantitative analysis of micromorphology changes during the growth of films. |
| Description: | Свойства, диагностика и применение полупроводниковых материалов и структур на их основе |
| URI: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/215210 |
| ISBN: | 978-985-566-671-5 |
| Sponsorship: | Работа финансировалась в рамках ГПНИ на 2016–2020 г. «Физическое материаловедение, новые материалы и технологии» (подпрограмма «Материаловедение и технологии материалов», задание 1.40, № ГР 20161123). Авторы благодарны О. Г. Бобровичу (БГТУ) и О. М. Михалковичу (БГПУ) за помощь при получении образцов методом ОПАСИ и проведении АСМ измерений. |
| Appears in Collections: | 2018. Материалы и структуры современной электроники |
Files in This Item:
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| 117-122.pdf | 779,78 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.