Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/215210| Заглавие документа: | Закономерности формирования тонких металлических пленок на стекле при ионно-ассистированном осаждении |
| Другое заглавие: | Regularities of formation of thin metal films on glass substrate upon ion-assisted deposition / I. I. Tashlykova-Bushkevich, Yu. S. Yakovenko, I. А. Bushkevich, D. R. Gagua, A. S. Tsal |
| Авторы: | Ташлыкова-Бушкевич, И. И. Яковенко, Ю. С. Бушкевич, И. А. Гагуа, Д. Р. Цаль, А. С. |
| Тема: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
| Дата публикации: | 2018 |
| Издатель: | Минск : БГУ |
| Библиографическое описание источника: | Материалы и структуры современной электроники : материалы VIII Междунар. науч. конф., Минск, 10–12 окт. 2018 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2018. – С. 117-122. |
| Аннотация: | Методами растровой электронной микроскопии (РЭМ) и атомно-силовой микроскопии (АСМ) исследовано влияние условий ионно-ассистированного осаждения на микроструктуру поверхности тонких металлических пленок из молибдена на стеклянные подложки. Получено, что при пассивном нанесении Mo с увеличением времени осаждения покрытия с 3 до 9 ч шероховатость поверхности увеличивается от 1,05 до 1,66 нм и уменьшается при приложении потенциала, снижаясь до 0,33 нм при осаждении в течение 5 ч при U = 10 кВ. Установлена корреляция характера изменения шероховатости пленок и среднего диаметра, объемной доли и удельной поверхности границ частиц микрокапельной фракции в зависимости от режима и времени нанесения покрытий. Построение гистограмм распределения высот и впадин рельефа поверхности позволило провести количественный анализ изменения микроморфологии пленок в процессе их роста. |
| Аннотация (на другом языке): | The effect of ion beam assisted deposition conditions on the surface microstructure of thin metal films of molybdenum on glass substrates was studied by scanning electron microscopy (SEM) and atomic force microscopy (AFM). For Mo deposition without ions, it was found that the surface roughness increases from 1.05 to 1.66 nm with increasing deposition time from 3 to 9 h and decreases to 0.33 nm upon ion-assisted deposition using Mo ions for 5 hours at U = 10 kV. A correlation between the changes in the film roughness and the average diameter, volume fraction, and specific surface area of boundaries of microdropletsis established depending on operating conditions and deposition time. Plotting of surface height/cavity histograms allowed performing a quantitative analysis of micromorphology changes during the growth of films. |
| Доп. сведения: | Свойства, диагностика и применение полупроводниковых материалов и структур на их основе |
| URI документа: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/215210 |
| ISBN: | 978-985-566-671-5 |
| Финансовая поддержка: | Работа финансировалась в рамках ГПНИ на 2016–2020 г. «Физическое материаловедение, новые материалы и технологии» (подпрограмма «Материаловедение и технологии материалов», задание 1.40, № ГР 20161123). Авторы благодарны О. Г. Бобровичу (БГТУ) и О. М. Михалковичу (БГПУ) за помощь при получении образцов методом ОПАСИ и проведении АСМ измерений. |
| Располагается в коллекциях: | 2018. Материалы и структуры современной электроники |
Полный текст документа:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| 117-122.pdf | 779,78 kB | Adobe PDF | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.