Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/215198
Заглавие документа: | Фазовые превращения в системе: двухслойная пленка Pt/Ni – Si при БТО |
Другое заглавие: | Phase transformation in Pt/Ni-Si two- layer film system uder rapid thermal processing / M. I. Markevich, A. M Chaplanov, Ya. A. Soloviev, O. E. Sarychev, S. B. Kushchev, O. V. Serbin |
Авторы: | Маркевич, М. И. Чапланов, А. М. Соловьев, Я. А. Сарычев, О. Э. Кущев, С. Б. Сербин, О. В. |
Тема: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
Дата публикации: | 2018 |
Издатель: | Минск : БГУ |
Библиографическое описание источника: | Материалы и структуры современной электроники : материалы VIII Междунар. науч. конф., Минск, 10–12 окт. 2018 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2018. – С. 70-73. |
Аннотация: | Методами сканирующей электронной микроскопии и электронографии установлены особенности фазовых превращений в системе двухслойная пленка Pt/Ni-Si при БТО. Показаны особенности фотонной обработки перед стационарной обработкой. |
Аннотация (на другом языке): | Scanning electron microscopy and electron diffraction have revealed features of phase transformations in a two-layer Pt/Ni-Si film system in BTO. The features of photon processing before stationary treatment are shown. |
Доп. сведения: | Свойства, диагностика и применение полупроводниковых материалов и структур на их основе |
URI документа: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/215198 |
ISBN: | 978-985-566-671-5 |
Располагается в коллекциях: | 2018. Материалы и структуры современной электроники |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.