Взаимодействие карбонилсодержащих негативных резистов c видимым и УФ излучением

Abstract

Синтезированы поликонденсационные смолы, содержащие карбонильные и гидроксильные группы в боковой цепи макромолекулы. Путем полимераналогичных превращений в состав макромолекул были введены дополнительные функциональные группы: азидные, халконовые, а также остатки непредельных карбоновых кислот. На базе полученных высокомолекулярных соединений разработаны негативные резистивные композиции. Для них определена светочуствительность к излучению в видимом диапазоне спектра (лампа ДРШ-250) с использованием как добавленного, так и внутреннего азидного сенсибилизатора. Рассчитана также чувствительность композиций к УФ излучению в области 220-280 нм. Для указанных резистов отработаны операции литографического процесса, включая травление различными способами. Методом электрографии определена дефектность слоев после проведения литографии.