Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/206798| Title: | Низкоэнергетические ионы в процессах вакуумного напыления |
| Other Titles: | Low-energy ions in processes of vacuum deposition / Mikhail Nikitin |
| Authors: | Никитин, М. М. |
| Keywords: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
| Issue Date: | 2003 |
| Publisher: | Минск : БГУ |
| Citation: | Взаимодействие излучений с твердым телом: материалы V междунар. науч. конф., 6-9 окт. 2003 г., Минск. — Мн.: БГУ, 2003. — С. 32-34. |
| Abstract: | Бомбардировка электронными частицами широко применяется в процессах вакуумного напыления. Описаны современные тенденции а способах ионно-активированного напыления. Обсуждены эффекты, связанные с низкоэнергетической ионной бомбардировкой. Температурные и другие условия, преобладающие во время процесса напыления, играют важную роль в управлении процессами зарождения и роста покрытия. Рассмотрены возможные механизмы действия ионов на структуру и свойства покрытий. |
| Abstract (in another language): | Energy particle bombardment is used extensively in processes of vacuum deposition. The present trends in the techniques of ion-assisted deposition are described. The effects related to low-energy ion bombardment are discussed. The sputtering and thermal situation prevailing during growth plays an important role in controlling nucleation and growth conditions. The possible mechanisms of effect ion on the structures and properties of films are discussed. |
| URI: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/206798 |
| ISBN: | 985-445-236-0; 985-445-235-2 |
| Appears in Collections: | 2003. Взаимодействие излучений с твердым телом |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.