Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/206798
Заглавие документа: Низкоэнергетические ионы в процессах вакуумного напыления
Другое заглавие: Low-energy ions in processes of vacuum deposition / Mikhail Nikitin
Авторы: Никитин, М. М.
Тема: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Дата публикации: 2003
Издатель: Минск : БГУ
Библиографическое описание источника: Взаимодействие излучений с твердым телом: материалы V междунар. науч. конф., 6-9 окт. 2003 г., Минск. — Мн.: БГУ, 2003. — С. 32-34.
Аннотация: Бомбардировка электронными частицами широко применяется в процессах вакуумного напыления. Описаны современные тенденции а способах ионно-активированного напыления. Обсуждены эффекты, связанные с низкоэнергетической ионной бомбардировкой. Температурные и другие условия, преобладающие во время процесса напыления, играют важную роль в управлении процессами зарождения и роста покрытия. Рассмотрены возможные механизмы действия ионов на структуру и свойства покрытий.
Аннотация (на другом языке): Energy particle bombardment is used extensively in processes of vacuum deposition. The present trends in the techniques of ion-assisted deposition are described. The effects related to low-energy ion bombardment are discussed. The sputtering and thermal situation prevailing during growth plays an important role in controlling nucleation and growth conditions. The possible mechanisms of effect ion on the structures and properties of films are discussed.
URI документа: http://elib.bsu.by/handle/123456789/206798
ISBN: 985-445-236-0; 985-445-235-2
Располагается в коллекциях:2003. Взаимодействие излучений с твердым телом

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
32-34.pdf3,26 MBAdobe PDFОткрыть
Показать полное описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.