Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/203869
Title: | Компьютерное моделирование формирования дефектной структуры твёрдого тела при ионной имплантации |
Other Titles: | Computer simulation of damage distribution in ion implanted solid state / A.V.Sugonyako, V.A.Zhikharev, A .A.Bukharaev, N.I.Nurgazizov |
Authors: | Сугоняко, А. В. Жихарев, В. А. Бухараев, А. А. Нургазизов, Н. И. |
Keywords: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
Issue Date: | 2001 |
Publisher: | Минск : БГУ |
Citation: | Взаимодействие излучений с твердым телом: материалы IV Междунар. науч. конф., 3-5 окт. 2001 г., Минск. — Мн.: БГУ, 2001. — С. 54-56 |
Abstract: | В настоящей работе представлены результаты численного моделирования процесса имплантации ускоренных ионов в твёрдое тело. При проведении расчетов учитывалось накопление с ростом дозы облучения радиационных дефектов Френкеля и их взаимная рекомбинация, что приводит к насыщению числа вакансий при увеличении дозы облучения. Кроме того, было показано, что рекомбинация дефектов оказывает значительное влияние на соотношение двух конкурирующих процессов - распыления -и распухания облучаемого образца. Результаты численного моделирования хорошо согласуются с экспериментальными данными по радиационно-индуцированному растворению, распуханию и распылению, полученными при исследовании поверхности имплантированного диоксида кремния с помощью атомно-силового микроскопа. |
Abstract (in another language): | The model for computer simulation of the depth distribution of radiation induced damage is presented. The simulation also involves recombination processes, which are describing by simple kinetic equations. Thereby, some important experimental facts were explained. It is known that in some materials etching rate in irradiated surface layer has reached and saturation with radiation dose increase. One reason for this fact is a dependence of the etching rate on the amount of radiation induced damage in the implanted layer. The dose dependence of the induced vacancy distribution calculated with the model is in agreement with etching experiment results. Also we have simulated target sputtering and swelling in the process of ion implantation for different kinds of ions. |
URI: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/203869 |
ISBN: | 985-445-236-0 |
Appears in Collections: | 2001. Взаимодействие излучений с твердым телом |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.