Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/203869
Заглавие документа: Компьютерное моделирование формирования дефектной структуры твёрдого тела при ионной имплантации
Другое заглавие: Computer simulation of damage distribution in ion implanted solid state / A.V.Sugonyako, V.A.Zhikharev, A .A.Bukharaev, N.I.Nurgazizov
Авторы: Сугоняко, А. В.
Жихарев, В. А.
Бухараев, А. А.
Нургазизов, Н. И.
Тема: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Дата публикации: 2001
Издатель: Минск : БГУ
Библиографическое описание источника: Взаимодействие излучений с твердым телом: материалы IV Междунар. науч. конф., 3-5 окт. 2001 г., Минск. — Мн.: БГУ, 2001. — С. 54-56
Аннотация: В настоящей работе представлены результаты численного моделирования процесса имплантации ускоренных ионов в твёрдое тело. При проведении расчетов учитывалось накопление с ростом дозы облучения радиационных дефектов Френкеля и их взаимная рекомбинация, что приводит к насыщению числа вакансий при увеличении дозы облучения. Кроме того, было показано, что рекомбинация дефектов оказывает значительное влияние на соотношение двух конкурирующих процессов - распыления -и распухания облучаемого образца. Результаты численного моделирования хорошо согласуются с экспериментальными данными по радиационно-индуцированному растворению, распуханию и распылению, полученными при исследовании поверхности имплантированного диоксида кремния с помощью атомно-силового микроскопа.
Аннотация (на другом языке): The model for computer simulation of the depth distribution of radiation induced damage is presented. The simulation also involves recombination processes, which are describing by simple kinetic equations. Thereby, some important experimental facts were explained. It is known that in some materials etching rate in irradiated surface layer has reached and saturation with radiation dose increase. One reason for this fact is a dependence of the etching rate on the amount of radiation induced damage in the implanted layer. The dose dependence of the induced vacancy distribution calculated with the model is in agreement with etching experiment results. Also we have simulated target sputtering and swelling in the process of ion implantation for different kinds of ions.
URI документа: http://elib.bsu.by/handle/123456789/203869
ISBN: 985-445-236-0
Располагается в коллекциях:2001. Взаимодействие излучений с твердым телом

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
54-56.pdf683,95 kBAdobe PDFОткрыть
Показать полное описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.