Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/196239
Заглавие документа: Аппроксимация начального участка ВАХ высоколегированного МОП-ПТ
Авторы: Андреев, Альберт Данилович
Бельский, Александр Михайлович
Валиев, Александр Анатольевич
Тема: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Дата публикации: 2001
Издатель: Минск : БГУ
Библиографическое описание источника: Вестник Белорусского государственного университета. Сер. 1, Физика. Математика. Информатика. – 2001. - № 2. – С. 19-22.
Аннотация: The approximation of the high-dopant MOS FET current-voltage characteristic before saturation in a drain voltage range 0-2qy is offered. This method allows to calculate drain current, drain current saturation voltage in the case when constructive-technological parameters of the device and gate voltage are given. It is shown that account of the drain voltage dependence of effective mobility is not necessary in this approximation.
URI документа: http://elib.bsu.by/handle/123456789/196239
ISSN: 0321-0367
Лицензия: info:eu-repo/semantics/openAccess
Располагается в коллекциях:2001, №2 (май)

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
19-22.pdf2,55 MBAdobe PDFОткрыть
Показать полное описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.