Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/14074
Заглавие документа: | Влияние вертикального масштабирования на статические и динамические параметры биполярных микросхем |
Авторы: | Пилипенко, В. А. Понарядов, В. В. Горушко, В. А. Шведов, С. В. Петлицкая, Т. В. |
Тема: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
Дата публикации: | мая-2011 |
Издатель: | БГУ |
Библиографическое описание источника: | Вестник Белорусского государственного университета. Сер. 1, Физика. Математика. Информатика. – 2011. - № 2. – С. 37-41. |
Аннотация: | It shows, that the vertical scaling of the bipolar integrated microcircuits with application of rapid thermal process ensures enhancement of their gain and dynamic parameters with the simultaneous chip area shrinkage and increase of the good chips yield at the temperature tests. = Показано, что вертикальное масштабирование биполярных интегральных микросхем с применением БТО позволяет улучшить их усилительные и динамические параметры при одновременном уменьшении площади кристалла и увеличении выхода годных кристаллов на температурных испытаниях. |
URI документа: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/14074 |
ISSN: | 0321-0367 |
Лицензия: | info:eu-repo/semantics/openAccess |
Располагается в коллекциях: | 2011, №2 (май) |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.