Logo BSU

Please use this identifier to cite or link to this item: http://elib.bsu.by/handle/123456789/14074
Title: Влияние вертикального масштабирования на статические и динамические параметры биполярных микросхем
Authors: Пилипенко, В. А.
Понарядов, В. В.
Горушко, В. А.
Шведов, С. В.
Петлицкая, Т. В.
Keywords: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Issue Date: May-2011
Publisher: БГУ
Citation: Вестник Белорусского государственного университета. Сер. 1, Физика. Математика. Информатика. – 2011. - № 2. – С. 37-41.
Abstract: It shows, that the vertical scaling of the bipolar integrated microcircuits with application of rapid thermal process ensures enhancement of their gain and dynamic parameters with the simultaneous chip area shrinkage and increase of the good chips yield at the temperature tests. = Показано, что вертикальное масштабирование биполярных интегральных микросхем с применением БТО позволяет улучшить их усилительные и динамические параметры при одновременном уменьшении площади кристалла и увеличении выхода годных кристаллов на температурных испытаниях.
URI: http://elib.bsu.by/handle/123456789/14074
ISSN: 0321-0367
Appears in Collections:2011, №2 (май)

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
37-41.pdf370,76 kBAdobe PDFView/Open


PlumX

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.