Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/120256
Заглавие документа: | ОСОБЕННОСТИ ТЕМПЕРАТУРНОЙ ЗАВИСИМОСТИ УДЕЛЬНОГО КОНТАКТНОГО СОПРОТИВЛЕНИЯ ОМИЧЕСКИХ КОНТАКТОВ К n+-n СТРУКТУРАМ КРЕМНИЯ |
Авторы: | Беляев, А. Е. Болтовец, Н. С. Саченко, А. В. |
Тема: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
Дата публикации: | 2015 |
Аннотация: | В диапазоне температур 120-380 К в вертикальной геометрии измерены температурные зависимости удельного контактного сопротивления ρс(Т) омических контактов Au–Ti–Pd2Si –n+–n-Si со ступенькой легирования, изготовленной диффузией или ионным легированием. Установлено, что в образцах обоих типов ρс во всем измеренном интервале температур растет по закону, близкому к квадратичному. Экспериментальные зависимости ρс(Т) описаны теоретически в предположении, что между сильнолегированным n+– слоем и подложкой существует тонкий высокоомный слой Si. |
URI документа: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/120256 |
Располагается в коллекциях: | 2015. Взаимодействие излучений с твердым телом |
Полный текст документа:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
Беляев-Конакова.pdf | 448,78 kB | Adobe PDF | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.