Logo BSU

Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.bsu.by/handle/123456789/120128
Title: РЕЛАКСАЦИЯ УПРУГИХ НАПРЯЖЕНИЙ ВБЛИЗИ ПОВЕРХНОСТИ ДИАЗОХИНОННОВОЛАЧНОГО РЕЗИСТА ПРИ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ
Authors: Просолович, В. С.
Бринкевич, Д. И.
Янковский, Ю. Н.
Keywords: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Issue Date: 2015
Abstract: Методом атомно-силовой микроскопии экспериментально показано, что в процессе ионной имплантации на поверхности позитивного фоторезиста ФП2190 формируются неравномерно распределенные по поверхности конусообразные структуры. Высота, диаметр в основании и плотность распределения таких структур зависит от условий облучения и вида имплантированных ионов. Наблюдаемые при имплантации изменения морфологии поверхности фоторезиста обусловлены релаксацией напряжений, образовавшихся в процессе изготовления пленки, и радиационно-химическими процессами в приповерхностном слое фоторезиста.
URI: http://elib.bsu.by/handle/123456789/120128
Appears in Collections:2015. Взаимодействие излучений с твердым телом

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Просолович .pdf593,99 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar



Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.