Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/120128
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorПросолович, В. С.-
dc.contributor.authorБринкевич, Д. И.-
dc.contributor.authorЯнковский, Ю. Н.-
dc.date.accessioned2015-10-07T14:41:25Z-
dc.date.available2015-10-07T14:41:25Z-
dc.date.issued2015-
dc.identifier.urihttp://elib.bsu.by/handle/123456789/120128-
dc.description.abstractМетодом атомно-силовой микроскопии экспериментально показано, что в процессе ионной имплантации на поверхности позитивного фоторезиста ФП2190 формируются неравномерно распределенные по поверхности конусообразные структуры. Высота, диаметр в основании и плотность распределения таких структур зависит от условий облучения и вида имплантированных ионов. Наблюдаемые при имплантации изменения морфологии поверхности фоторезиста обусловлены релаксацией напряжений, образовавшихся в процессе изготовления пленки, и радиационно-химическими процессами в приповерхностном слое фоторезиста.ru
dc.language.isoruru
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физикаru
dc.titleРЕЛАКСАЦИЯ УПРУГИХ НАПРЯЖЕНИЙ ВБЛИЗИ ПОВЕРХНОСТИ ДИАЗОХИНОННОВОЛАЧНОГО РЕЗИСТА ПРИ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИru
dc.typeconference paperru
Располагается в коллекциях:2015. Взаимодействие излучений с твердым телом

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
Просолович .pdf593,99 kBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.