Logo BSU

Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.bsu.by/handle/123456789/111571
Title: Технологические особенности формирования встроенных токопроводящих элементов в объеме свободных алюмооксидных пластин в качестве микрополосковых СВЧ-линий
Authors: Шиманович, Д. Л.
Keywords: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Issue Date: 2014
Publisher: Издательский центр БГУ
Citation: Материалы и структуры современной электроники: сб. науч. тр. VI Междунар. науч. конф., Минск, 8-9 окт. 2014 г. / редкол.: В.Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.]. - Минск: Изд. центр БГУ, 2014. - С.
Abstract: Разработана методика изготовления Al2O3-пластин, которые выполняют роль несущих диэлектрических оснований и одновременно служат межэлементной диэлектрической средой для встроенной металлизации. Разработаны и оптимизированы технологические режимы формирования несущих алюмооксидных оснований со встроенной внутри диэлектрического тела системой токопроводящих алюминиевых элементов толщиной от 5 до 100 мкм. Формирования несущих алюмооксидных оснований осуществляется на основе двухстороннего сквозного анодирования и биполярного анодирования. Разработанные структуры являются перспективными для использования в качестве микрополосковых линий пассивной части систем СВЧ-диапазона.
URI: http://elib.bsu.by/handle/123456789/111571
ISBN: 978-985-553-234-8
Sponsorship: Белорусский Республиканский Фонд Фундаментальных Исследований
Appears in Collections:2014. Материалы и структуры современной электроники

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
p.237-239.pdf1,13 MBAdobe PDFView/Open


PlumX

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.