Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/108302
Заглавие документа: | Исследование комбинированной магнетронно-лазерной плазмы и разработка физических основ технологии формирования пленочных покрытий с использованием комбинированной плазмы : отчет о научно-исследовательской работе (заключительный) / научный руководитель А. П. Бурмаков |
Авторы: | Бурмаков, А. П. Кулешов, В. Н. Черный, В. Е. Прокопчик, К. Ю. |
Тема: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
Дата публикации: | 2013 |
Издатель: | Минск : БГУ |
Аннотация: | Объектом исследования являются комбинированная плазма, образованная магнетронным распылением и частотно-импульсным лазерным воздействием на материалы в вакуумных условиях. Цель работы – исследование параметры комбинированной плазмы, образованной магнетронным распылением и частотно-импульсным лазерным воздействием на материалы в вакуумных условиях, и разработки физические основы технологии формирования пленочных покрытий с использованием комбинированной плазмы. Основными методами исследований являются: эмиссионная оптическая спектроскопия, электрофизические и оптические методы измерения параметров магнетронного разряда и лазерной плазмы. В процессе работы использовались вакуумно-плазменные технологические установки магнетронного распыления УВН и ИНВАК с магнетронными распылителями, частотный двухимпульсный лазер LS-2134D, спектральный вычислительный комплекс КСВУ-23, спектрометр S100, осциллограф цифровой В-483, специально созданная в процессе работы спектральная аппаратура. В результате проведенной работы создан экспериментальный модуль для формирования и исследования комбинированного плазменного потока, образованного магнетронным распылением и частотно-импульсным лазерным воздействием на материалы в газах низкого давления. Изучено влияние параметров лазерного излучения на эмиссионно-оптические характеристики лазерной и комбинированной плазмы. Установлено, что генерация импульсной лазерной плазмы приводит к образованию шунтирующего дугового разряда, который оказывает существенное влияние на характеристики магнетронного разряда и комбинированного плазменного потока, а также позволяет проводить процесс комбинированного осаждения при давлениях в вакуумной камере, когда самостоятельное горение магнетронного разряда не реализуется. Разработаны алгоритмы оптического контроля и управления процессом совместного магнетронно-лазерного осаждения пленочных покрытий. Результаты работы могут быть использованы для отработки технологий формирования наноразмерных пленочных покрытий различного назначения. |
URI документа: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/108302 |
Регистрационный номер: | № гос. регистрации 20114965 |
Располагается в коллекциях: | Отчеты 2013 |
Полный текст документа:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
отчет Бурмаков 20114965.doc | 1,11 MB | Microsoft Word | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.