Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/108302
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorБурмаков, А. П.-
dc.contributor.authorКулешов, В. Н.-
dc.contributor.authorЧерный, В. Е.-
dc.contributor.authorПрокопчик, К. Ю.-
dc.date.accessioned2015-01-28T10:46:08Z-
dc.date.available2015-01-28T10:46:08Z-
dc.date.issued2013-
dc.identifier.other№ гос. регистрации 20114965-
dc.identifier.urihttp://elib.bsu.by/handle/123456789/108302-
dc.description.abstractОбъектом исследования являются комбинированная плазма, образованная магнетронным распылением и частотно-импульсным лазерным воздействием на материалы в вакуумных условиях. Цель работы – исследование параметры комбинированной плазмы, образованной магнетронным распылением и частотно-импульсным лазерным воздействием на материалы в вакуумных условиях, и разработки физические основы технологии формирования пленочных покрытий с использованием комбинированной плазмы. Основными методами исследований являются: эмиссионная оптическая спектроскопия, электрофизические и оптические методы измерения параметров магнетронного разряда и лазерной плазмы. В процессе работы использовались вакуумно-плазменные технологические установки магнетронного распыления УВН и ИНВАК с магнетронными распылителями, частотный двухимпульсный лазер LS-2134D, спектральный вычислительный комплекс КСВУ-23, спектрометр S100, осциллограф цифровой В-483, специально созданная в процессе работы спектральная аппаратура. В результате проведенной работы создан экспериментальный модуль для формирования и исследования комбинированного плазменного потока, образованного магнетронным распылением и частотно-импульсным лазерным воздействием на материалы в газах низкого давления. Изучено влияние параметров лазерного излучения на эмиссионно-оптические характеристики лазерной и комбинированной плазмы. Установлено, что генерация импульсной лазерной плазмы приводит к образованию шунтирующего дугового разряда, который оказывает существенное влияние на характеристики магнетронного разряда и комбинированного плазменного потока, а также позволяет проводить процесс комбинированного осаждения при давлениях в вакуумной камере, когда самостоятельное горение магнетронного разряда не реализуется. Разработаны алгоритмы оптического контроля и управления процессом совместного магнетронно-лазерного осаждения пленочных покрытий. Результаты работы могут быть использованы для отработки технологий формирования наноразмерных пленочных покрытий различного назначения.ru
dc.language.isoruru
dc.publisherМинск : БГУru
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физикаru
dc.titleИсследование комбинированной магнетронно-лазерной плазмы и разработка физических основ технологии формирования пленочных покрытий с использованием комбинированной плазмы : отчет о научно-исследовательской работе (заключительный) / научный руководитель А. П. Бурмаковru
dc.typereportru
Располагается в коллекциях:Отчеты 2013

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
отчет Бурмаков 20114965.doc1,11 MBMicrosoft WordОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.