Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/108133
Заглавие документа: Пошаговый метод имплантации кремния ионами бора при быстром термическом отжиге
Авторы: Садовский, П. К.
Челядинский, А. Р.
Оджаев, В. Б.
Тарасик, М. И.
Шейников, Д. П.
Тема: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Дата публикации: 2014
Издатель: Издательский центр БГУ
Библиографическое описание источника: Материалы и структуры современной электроники: сб. науч. тр. VI Междунар. науч. конф., Минск, 8-9 окт. 2014 г. / редкол.: В.Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.]. - Минск: Изд. центр БГУ, 2014. - С.
Аннотация: В работе проводилось исследование влияния режимов БТО на образование остаточных нарушений в легированных слоях кремния, созданных пошаговой имплантацией ионов бора. Исследованы пластины кремния КЭФ-4,5, имплантированные ионами бора с энергией 80 кэВ дозами 7Е14 см-2 и 1,5Е15 см-2 в 1, 3 и 4 шага. Установлено, что при пошаговом методе имплантации ионами бора с применением БТО образуется высокая мгновенная концентрация междоузельных атомов кремния в слое внедрения при БТО по сравнению с термоотжигом в печи вследствие существенного различия в скоростях нагрева и распада междоузельных комплексов.
URI документа: http://elib.bsu.by/handle/123456789/108133
ISBN: 978-985-553-234-8
Финансовая поддержка: Белорусский Республиканский Фонд фундаментальных Исследований
Располагается в коллекциях:2014. Материалы и структуры современной электроники

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
p.141-144.pdf726,47 kBAdobe PDFОткрыть
Показать полное описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.