Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/108018| Title: | Особенности парамагнетизма имплантированных ионами железа, никеля и сурьмы полимерных пленок промышленного фоторезиста |
| Authors: | Оджаев, В. Б. Олешкевич, А. Н. Лапчук, Т. М. Лапчук, Н. М. Волобуев, В. С. Никитенко, А. Н. |
| Keywords: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
| Issue Date: | 2014 |
| Publisher: | Издательский центр БГУ |
| Citation: | Материалы и структуры современной электроники: сб. науч. тр. VI Междунар. науч. конф., Минск, 8-9 окт. 2014 г. / редкол.: В.Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.]. - Минск: Изд. центр БГУ, 2014. - С. |
| Abstract: | В работе установлены основные отличительные черты радиационного легирования пленок фоторезиста примесью, с различной магнитной активностью путем анализа основных параметров спектров ЭПР этих образцов. Исследовались образцы пленок промышленного позитивного фоторезиста марки ФП 9120 исходные и имплантированные ионами металлической примеси (Fe, Ni, Sb). Природа парамагнитных центров в имплантированных ионами сурьмы пленках фоторезиста обусловлена локализованными на разорванной химической связи С-С неспаренными электронами. Значения g–факторов свидетельствуют о преимущественном вкладе орбитального момента электронов, чем объясняется магнетизм легированных ионами железа пленок фоторезиста не магнитных в исходном состоянии. |
| URI: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/108018 |
| ISBN: | 978-985-553-234-8 |
| Sponsorship: | Белорусский Республиканский Фонд Фундаментальных Исследований |
| Appears in Collections: | 2014. Материалы и структуры современной электроники |
Files in This Item:
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| p.135-138.pdf | 288,09 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.