Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/108018
Заглавие документа: | Особенности парамагнетизма имплантированных ионами железа, никеля и сурьмы полимерных пленок промышленного фоторезиста |
Авторы: | Оджаев, В. Б. Олешкевич, А. Н. Лапчук, Т. М. Лапчук, Н. М. Волобуев, В. С. Никитенко, А. Н. |
Тема: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
Дата публикации: | 2014 |
Издатель: | Издательский центр БГУ |
Библиографическое описание источника: | Материалы и структуры современной электроники: сб. науч. тр. VI Междунар. науч. конф., Минск, 8-9 окт. 2014 г. / редкол.: В.Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.]. - Минск: Изд. центр БГУ, 2014. - С. |
Аннотация: | В работе установлены основные отличительные черты радиационного легирования пленок фоторезиста примесью, с различной магнитной активностью путем анализа основных параметров спектров ЭПР этих образцов. Исследовались образцы пленок промышленного позитивного фоторезиста марки ФП 9120 исходные и имплантированные ионами металлической примеси (Fe, Ni, Sb). Природа парамагнитных центров в имплантированных ионами сурьмы пленках фоторезиста обусловлена локализованными на разорванной химической связи С-С неспаренными электронами. Значения g–факторов свидетельствуют о преимущественном вкладе орбитального момента электронов, чем объясняется магнетизм легированных ионами железа пленок фоторезиста не магнитных в исходном состоянии. |
URI документа: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/108018 |
ISBN: | 978-985-553-234-8 |
Финансовая поддержка: | Белорусский Республиканский Фонд Фундаментальных Исследований |
Располагается в коллекциях: | 2014. Материалы и структуры современной электроники |
Полный текст документа:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
p.135-138.pdf | 288,09 kB | Adobe PDF | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.