Logo BSU

Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.bsu.by/handle/123456789/108018
Title: Особенности парамагнетизма имплантированных ионами железа, никеля и сурьмы полимерных пленок промышленного фоторезиста
Authors: Оджаев, В. Б.
Олешкевич, А. Н.
Лапчук, Т. М.
Лапчук, Н. М.
Волобуев, В. С.
Никитенко, А. Н.
Keywords: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Issue Date: 2014
Publisher: Издательский центр БГУ
Citation: Материалы и структуры современной электроники: сб. науч. тр. VI Междунар. науч. конф., Минск, 8-9 окт. 2014 г. / редкол.: В.Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.]. - Минск: Изд. центр БГУ, 2014. - С.
Abstract: В работе установлены основные отличительные черты радиационного легирования пленок фоторезиста примесью, с различной магнитной активностью путем анализа основных параметров спектров ЭПР этих образцов. Исследовались образцы пленок промышленного позитивного фоторезиста марки ФП 9120 исходные и имплантированные ионами металлической примеси (Fe, Ni, Sb). Природа парамагнитных центров в имплантированных ионами сурьмы пленках фоторезиста обусловлена локализованными на разорванной химической связи С-С неспаренными электронами. Значения g–факторов свидетельствуют о преимущественном вкладе орбитального момента электронов, чем объясняется магнетизм легированных ионами железа пленок фоторезиста не магнитных в исходном состоянии.
URI: http://elib.bsu.by/handle/123456789/108018
ISBN: 978-985-553-234-8
Sponsorship: Белорусский Республиканский Фонд Фундаментальных Исследований
Appears in Collections:2014. Материалы и структуры современной электроники

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
p.135-138.pdf288,09 kBAdobe PDFView/Open


PlumX

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.