Logo BSU

Статистика

Всего просмотров

Просмотров
Numerical method for computer modeling of diffusion of implanted dopant atoms in silicon in modern VLSI technology 275

Всего просмотров за месяц

февраля 2025 марта 2025 апреля 2025 мая 2025 июня 2025 июля 2025 августа 2025
Numerical method for computer modeling of diffusion of implanted dopant atoms in silicon in modern VLSI technology 6 2 6 0 15 1 3

Загрузок файла

Просмотров
Untitled21.pdf 93

ТОП-просмотров по странам

Просмотров
Соединенные Штаты 95
Канада 33
Россия 28
Китай 24
Украина 13
Франция 10
Япония 10
Германия 8
EU 8
Швеция 7

ТОП-просмотров по городам

Просмотров
Ottawa 27
Ashburn 15
Houston 11
Oakland 11
Tokyo 10
Ann Arbor 7
Toronto 6
Hangzhou 5
Menlo Park 5
Seattle 5