Формирование многослойных наноструктурных покрытий TiN/MoN при различной толщине слоя с помощью C-PVD и их исследование

Abstract

С помощью вакуумно-дугового испарения катода (C-PVD) на вакуумно-дуговой установке «Булат-6» были получены многослойные покрытия на основе TiN/MoN толщиной 6,7÷8,7 мкм с различной толщиной монослоя в 2, 10, 20 и 40 нм. Для анализа структуры и свойств многослойных наноструктурных покрытий был использован метод XRD анализа в Cu-Kα излучении (D8 ADVANCE, Bruker). Для исследования элементного состава и морфологии слоев и поверхности многослойных покрытий были использованы SEM с EDX приставкой (JEOL-7001F, Япония). Также был использован метод HRTEM для анализа фазового состава. Кроме этого, в статье приводятся измерения твёрдости на микротвердо- мере производства компании CSM (Швейцария). Для дополнительного анализа топографии и шероховатостей поверхности исследуемых покрытий использовали AFM. В процессе исследований были выявлены определённые зависимости между толщинами слоёв, потенциалом подложки, процессом отжига и физико-механическими свойствами образцов.