Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/340594
Заглавие документа: Диффузионно-дрейфовое соотношение для прыгающих по трехзарядным точечным дефектам электронов в разупорядоченных полупроводниках
Другое заглавие: Diffusion-Drift Relationship for Electrons Hopping via Three-Charge-State Point Defects in Disordered Semiconductors / Poklonski N.A., Anikeev I.I., Vyrko S.A.
Авторы: Поклонский, Н. А.
Аникеев, И. И.
Вырко, С. А.
Тема: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Дата публикации: 2025
Издатель: Минск : БГУ
Библиографическое описание источника: Взаимодействие излучений с твердым телом : материалы 16-й Междунар. конф., Минск, Беларусь, 22-25 сент. 2025 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. В. Углов (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2025. – С. 318-320.
Аннотация: Выведено соотношение Нернста-Таунсенда-Эйнштейна-Смолуховского для аналитического расчета от ношения коэффициента прыжковой диффузии к дрейфовой прыжковой подвижности. Учитывается прыжковая миграция как одиночных электронов, так и пар электронов (биполяронов) между собственными точечными трехзарядными (-1, 0 и +1 в единицах элементарного заряда) дефектами одного сорта в однородно разупорядоченных полупроводниках. Увеличение числа электронов, квазилокализованных на трехзарядном дефекте, увеличивает его энергию для дефекта с положительной энергией корреляции («жесткого» дефекта, или t-дефекта) и уменьшает его энергию для дефекта с отрицательной энергией корреляции («мягкого» дефекта, или s-дефекта). Считается, что трехзарядные дефекты случайно (пуассоновски) распределены по кристаллу и прыжки одиночных электронов происходят только между дефектами в зарядовых состояниях (-1), (0) и (0), (+1), а биполяронов между дефектами в зарядовых состояниях (-1) и (+1). Учтены величины разброса уровней энергии трехзарядных дефектов вследствие флуктуаций электростатической потенциальной энергии, порождаемой ионами как трехзарядных дефектов, так и ионами водородоподобных доноров. Рассчитаны зависимости отношений величины коэффициента прыжковой диффузии к прыжковой дрейфовой подвижности от абсолютной температуры в однородно разупорядоченных кристаллах кремния для концентрации трехзарядных дефектов 5⋅10 19 см-3. Считалось, что трехзарядные дефекты компенсированы водородоподобными донорами со степенью компенсации 0.5
Аннотация (на другом языке): The Nernst-Townsend-Einstein-Smoluchowski relation is derived for the analytical calculation of the ratio of the hopping diffusion coefficient to the drift hopping mobility. The model accounts for hopping migration of both single electrons and electron pairs (bipolarons) via intrinsic point three-charge-state (-1, 0, and +1 in units of elementary charge) defects of the same type in homogeneously disordered semiconductors. Increasing the number of electrons quasi-localized on a three-charge-state defect increases its energy for a defect with a positive correlation energy (“hard” defect, or t-defect) and decreases its energy for a defect with a negative correlation energy (“soft” defect, or s-defect). It is assumed that the three-charge-state defects are randomly (Poissonian) distributed over the crystal and that single electrons hop only via defects in the charge states (-1), (0) and (0), (+1), and bipolarons hop via defects in the charge states (-1) and (+1). The values of the spread of energy levels of three-charge-state defects due to fluctuations of electrostatic potential energy generated by ions of both three-charge-state defects and hydrogen-like donors are taken into account. The dependences of the ratios of the hopping diffusion coefficient to the hopping drift mobility on the absolute temperature in homogeneously disordered silicon crystals are calculated for concentration of three-charge-state defects of 5⋅10 19 cm-3. It was assumed that three-charge-state state defects are compensated by hydrogen-like donors with compensation ratio 0.5
Доп. сведения: Секция 3. Влияние излучений на структуру и свойства материалов = Section 3. Radiation Influence on the Structure and Properties of Materials
URI документа: https://elib.bsu.by/handle/123456789/340594
ISSN: 2663-9939 (print)
2706-9060 (online)
Финансовая поддержка: Работа выполнена при финансовой поддержке ГПНИ Республики Беларусь «Материаловедение, новые материалы и технологии» (задание 1.8.2).
Лицензия: info:eu-repo/semantics/openAccess
Располагается в коллекциях:2025. Взаимодействие излучений с твердым телом

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
318-320.pdf128,83 kBAdobe PDFОткрыть
Показать полное описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.