Облученные электронами пленки фоторезистов KMPE3502

Abstract

Методом ИК-Фурье-спектроскопии с использованием приставки для диффузного отражения исследованы пленки фоторезистов КМР Е3502 толщиной 2.62 мкм, нанесенные на поверхность пластин кремния методом центрифугирования. Облучение электронами с энергией 3.5 МэВ дозой до Ф = 7x10 16 см-2 проводилось на линейном ускорителе электронов ЭЛУ-4. Показано, что при облучении интенсивность связанных с растворителем полос в диапазоне v = 1000-1070 см-1 снижается и при дозах > 1 x10 16 см-2 они исчезают из спектра. Полосы, связанные с колебаниями ароматического кольца, достаточно стабильны. Их интенсивность заметно снижается только при дозе Ф = 7x10 16 см-2. В области валентных колебаний кратных связей С=О и С=С при облучении наблюдалось снижение интенсивности полосы при 1700 см-1, связанной с растворителем, и возрастание интенсивности полосы при 1650 см-1, обусловленный, вероятнее всего, образованием хиноидных групп. Интенсивность полосы внеплоскостных колебаний С-Н связей паразамещенного кольца заметно снижается только при дозе Ф = 7x10 16 см-2