Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/340289
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorKoval, N.N.-
dc.contributor.authorUglov, V.V.-
dc.contributor.authorIvanov, Yu.F.-
dc.contributor.authorPetukhou, Yu.A.-
dc.contributor.authorKudaktsin, R.S.-
dc.contributor.authorTeresov, A.D.-
dc.contributor.authorKalin, A.V.-
dc.date.accessioned2026-01-22T13:21:00Z-
dc.date.available2026-01-22T13:21:00Z-
dc.date.issued2012-
dc.identifier.citationPlasma physics and plasma technology, Minsk, Belarus, 17–21 сентября 2012 года. Vol. Volume I. – Minsk, Belarus: Kovcheg, 2012. – P. 380-383ru
dc.identifier.urihttps://elib.bsu.by/handle/123456789/340289-
dc.description.abstractIn this communication we discuss peculiarities of microstructural changes in “metal layer (Ti, Zr, Cr)-silicon substrate” systems treated by LEHCEB with energy density 8-15 J/cm2 and pulse duration 50-200 μs. As it was shown in recent papers /2/, energy density of LEHCEB is sufficient for melting of the surface layer; therefore, mechanisms of structural transformation are mainly caused by solidification of the surface melt.ru
dc.language.isoenru
dc.publisherKovchegru
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccessru
dc.subjectЭБ БГУ::ТЕХНИЧЕСКИЕ И ПРИКЛАДНЫЕ НАУКИ. ОТРАСЛИ ЭКОНОМИКИ::Электроника. Радиотехникаru
dc.titleMicrostructure of binary “metal-silicon” systems treated by low-energy high-current electron beamsru
dc.typeconference paperru
dc.rights.licenseCC BY 4.0ru
dc.identifier.orcid0000-0003-1929-4996-
Располагается в коллекциях:Кафедра физики твердого тела и нанотехнологий (статьи)

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
Коваль.pdf1,08 MBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.