Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/336859| Заглавие документа: | Структура и электрические свойства гетероэпитаксиальных пленок InSb после воздействия протонов с энергией 1,5 МэВ |
| Другое заглавие: | Structure and electrical properties of InSb heteroepitaxial films after exposure to protons with energy of 1.5 MeV / V. V. Uglov, A. K. Kuleshov, D. P. Rusalsky |
| Авторы: | Углов, В. В. Кулешов, А. К. Русальский, Д. П. |
| Тема: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
| Дата публикации: | 2025 |
| Издатель: | Минск : БГУ |
| Библиографическое описание источника: | Журнал Белорусского государственного университета. Физика = Journal of the Belarusian State University. Physics. – 2025. – № 2. – С. 60-67 |
| Аннотация: | Исследуются гетероэпитаксиальные пленки антимонида индия (InSb) на монокристаллических пластинах арсенида галлия (GaAs) толщиной 2,5 –2,7 мкм, полученные методом вакуумного взрывного термического испарения. Они обладают уникальной стойкостью к сверхнизким температурам открытого космоса, определенному уровню радиационного воздействия и применяются в качестве основного элемента при создании различных микроэлектронных устройств. С использованием метода рентгеновской дифрактометрии изучаются изменения структуры и электрических свойств (в том числе в магнитном поле) гетероэпитаксиальных пленок InSb(100) на подложках GaAs(100) после воздействия протонов с энергией 1,5 МэВ и флюенсами 1 ⋅ 1015, 5 ⋅ 1015 и 1 ⋅ 1016 H+ на 1 см2. Определяется, что угловое положение, интегральная интенсивность, расширение пика дифракции от InSb(100), параметр кристаллической решетки, электрические свойства пленок, механические напряжения в них не изменяются при облучении пленок протонами до флюенса 1 ⋅ 1015 H+ на 1 см2. Устанавливается, что при влиянии на пленки протонов с флюенсами 5 ⋅ 1015 и 1 ⋅ 1016 H+ на 1 см2 происходит уменьшение интегральной интенсивности пика дифракции от InSb(100). Произведенные с использованием программы SRIM расчеты атомных радиационных повреждений и концентрации вакансий в пленках InSb(100) при названных выше флюенсах показали их линейный рост и увеличение значений до 10 раз при максимальном флюенсе протонов. Предполагается, что в результате смещения атомов и накопления радиационных точечных дефектов происходит искажение кристаллической решетки InSb и уменьшается интегральная интенсивность пика дифракции. Отмечается, что при этих условиях облучения увеличиваются напряжение Холла и постоянная Холла, а также уменьшаются концентрация носителей заряда, их подвижность и удельная проводимость пленок. Перспективным представляется исследование радиационной стойкости структуры и электрических свойств пленок InSb после влияния протонов с энергией 1,5 МэВ и высокими флюенсами, которые составляют основу радиационного воздействия в космосе. |
| Аннотация (на другом языке): | Indium antimonide (InSb) heteroepitaxial films on single-crystal gallium arsenide (GaAs) wafers with a thickness of 2.5 –2.7 μm, obtained by vacuum explosive thermal evaporation, are studied. They have unique resistance to the ultra-low temperatures of outer space and a certain level of radiation exposure, and are used as the main element in the creation of various microelectronic devices. X-ray diffractometry is used to study changes in the structure and electrical properties (including in a magnetic field) of InSb(100) heteroepitaxial films on GaAs(100) substrates after exposure to protons with an energy of 1.5 MeV and fluences of 1 ⋅ 1015, 5 ⋅ 1015 and 1 ⋅ 1016 H+ per 1 cm2. It is determined that the angular position, integral intensity, diffraction peak broadening from InSb(100), crystal lattice parameter, electrical properties of the films and mechanical stresses in them do not change when the films are irradiated with protons up to a fluence of 1 ⋅ 1015 H+ per 1 cm2. It has been established that when films are exposed to protons with fluences of 5 ⋅ 1015 and 1 ⋅ 1016 H+ per 1 cm2, there is a decrease in the integral intensity of the diffraction peak from InSb(100). Calculations of atomic radiation damage and vacancy concentration in InSb(100) films at the above-mentioned fluences, performed using the SRIM programme, showed their linear growth and an increase in values up to 10 times at the maximum proton fluence. It is assumed that the displacement of atoms and the accumulation of radiation point defects cause distortion of the InSb crystal lattice and a decrease in the integral intensity of the diffraction peak. It is noted that under these irradiation conditions, the Hall voltage and Hall constant increase, while the concentration of charge carriers, their mobility and the specific conductivity of the films decrease. It seems promising to study the radiation resistance of the structure and electrical properties of InSb films after exposure to protons with an energy of 1.5 MeV and high fluences, which form the basis of radiation exposure in space. |
| URI документа: | https://elib.bsu.by/handle/123456789/336859 |
| ISSN: | 2520-2243 |
| Финансовая поддержка: | Исследование выполнено при финансовой поддержке Белорусского республиканского фонда фундаментальных исследований (проект T23MЭ-003). = The research was carried out with the financial support of the Belarusian Republican Foundation for Fundamental Research (project T23ME-003). |
| Лицензия: | info:eu-repo/semantics/openAccess |
| Располагается в коллекциях: | 2025, №2 |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.

