Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/329593
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorЮщик, А. В.
dc.contributor.authorДаи Синьи
dc.contributor.authorЛукашевич, М. Г.
dc.contributor.authorОджаев, В. Б.
dc.contributor.authorВалеев, В. Ф.
dc.contributor.authorХайбуллин, Р. И.
dc.date.accessioned2025-05-22T14:49:16Z-
dc.date.available2025-05-22T14:49:16Z-
dc.date.issued2025
dc.identifier.citationМатериалы и структуры современной электроники : материалы XI Междунар. науч. конф., Минск, 16–18 окт. 2024 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2025. – С. 330-336.
dc.identifier.isbn978-985-881-739-8
dc.identifier.urihttps://elib.bsu.by/handle/123456789/329593-
dc.descriptionДефектно-примесная инженерия. Радиационные эффекты в полупроводниках
dc.description.abstractВ диапазоне длин волн 200–3000 нм исследовано пропускание и отражение исходных и имплантированных высокой дозой (D1 = 5·10 16 и D2 = 1,25·10 17 см-2) ионов железа тонких (40 мкм) пленок полиимида. Интегральный коэффициент пропускания при имплантации уменьшается более чем в три раза, а интегральный коэффициент отражения имеет немонотонную зависимость, показывая увеличение в 2,4 и 1,5 раза при дозе D1 = 5·10 16 см-2 и падении света на имплантированную и не имплантированную стороны соответственно, и уменьшение до величины отражения исходной пленки независимо от стороны падения при дозе D2 = 1,25·10 17 см-2, обусловленное карбонизацией приповерхностного слоя пленки и формированием в нем включений железа и его оксидов
dc.language.isoru
dc.publisherМинск : БГУ
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
dc.titleОптические характеристики пленок полиимида, имплантированных высокой дозой ионов железа
dc.title.alternativeOptical properties of polyimide films implanted with high dose of iron ions / A. V. Yuschik, Dai XinYi, M. G. Lukashevich, V. B. Odzhaev, V. F. Valeev, R. I. Khaibullin
dc.typeconference paper
dc.description.alternativeIn the wavelength range 200–3000 nm the transmittance and reflection of initial and implanted with high dose (D1 = 5·10 16 and D2 = 1·10 17 cm-2) of iron ions thin (40 μm) films of polyimide were investigated. The integral transmittance decreases by more than a factor of three upon implantation, and the integral reflectance has a non-monotonic dependence, showing an increase of 2.4 and 1.5 times at dose D1 = 5·10 16 cm-2 and light incident on the implanted and non-implanted sides, respectively, and decrease to the reflection value of the original film irrespective of the incident side at the dose D2 = 1.25·10 17 cm-2, caused by carbonisation of the film surface layer and formation of iron inclusions and its oxides in it
Располагается в коллекциях:2024. Материалы и структуры современной электроники

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
330-336.pdf427,17 kBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.