Logo BSU

Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.bsu.by/handle/123456789/306836
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorПолонский, Н. В.-
dc.date.accessioned2023-12-18T07:34:34Z-
dc.date.available2023-12-18T07:34:34Z-
dc.date.issued2023-
dc.identifier.urihttps://elib.bsu.by/handle/123456789/306836-
dc.description.abstractВ результате проведенной работы были разработаны режимы формирования слоев SiC на поли-Si вакуумно-термическим методом методами растровой электронной микроскопии и резерфордоского обратного рассеяние определены толщины слоев SiC после различной длительности карбидизации исследованы электрофизические характеристики слоев SiC на поли-Si.ru
dc.language.isoruru
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccessru
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физикаru
dc.titleФормирование контактов к слоям SiC, выращенным на поликристаллическом кремнииru
dc.typeannotationru
dc.rights.licenseCC BY 4.0ru
Appears in Collections:2023

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Полонский Н.В Аннотация магистерской.pdf177,47 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar



Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.