Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/304292| Заглавие документа: | Зарядовые свойства гетероструктуры кремний/графен в контакте с плазмой стационарного разряда |
| Другое заглавие: | Charging properties of silicon/graphene heterostructure in contact with stationary discharge plasma / Anton G. Trafimenko, Andrew V. Kukharev, Olga M. Chernausik, Denis A. Podryabinkin, Alexander L. Danilyuk |
| Авторы: | Трафименко, А. Г. Кухарев, А. В. Чернаусик, О. М. Подрябинкин, Д. А. Данилюк, А. Л. |
| Тема: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
| Дата публикации: | 2023 |
| Издатель: | Минск : БГУ |
| Библиографическое описание источника: | Взаимодействие излучений с твердым телом : материалы 15-й Междунар. конф., Минск, Беларусь, 26-29 сент. 2023 г. / Белорус, гос. ун-т ; редкол.: В. В. Углов (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2023. – С. 115-117. |
| Аннотация: | В докладе представлены результаты моделирования зарядовых свойств гетероструктуры кремний/графен в контакте с частично ионизированной плазмой стационарного разряда. Рассмотрено образование тройного заряженного слоя, определяемого барьером Шоттки кремний/графен и ленгмюровским слоем плазмы при отсутствии тока. Проведены расчеты электрохимического потенциала графена и концентрации электронов в нем, а также квантовой емкости в зависимости от работы выхода графена, концентрации доноров в кремнии, концентрации заряженных частиц в плазме, плавающего потенциала плазмы. Показано, что плазма оказывает влияние на электрохимический потенциал графена при условии, что заряд ленгмюровского слоя порядка заряда приповерхностного слоя кремния. Установлены закономерности роста электрохимического потенциала графена и концентрации электронов в нем с увеличением поверхностного потенциала кремния и заряда ленгмюровского слоя плазмы |
| Аннотация (на другом языке): | The report presents the results of modeling the charge properties of a silicon/graphene heterostructure in contact with partially ionized plasma of a stationary discharge. The formation of a triple charged layer determined by the silicon/graphene Schottky barrier and the Langmuir plasma layer in the absence of current is considered. In this case, the heterostructure will acquire a floating potential relative to the plasma volume, which will arise due to the charge of its surface. The fluxes of charged plasma particles (ions and electrons) to the surface are equalized and a positively charged (Langmuir) layer appears in the surface region of the plasma due to a significant difference in the electron and ion mobilities. The models of charged layers in the absence of current through the heterostructure are presented. The electrochemical potential of graphene and the electron concentration in it, as well as the quantum capacitance depending on the graphene work function, the donor’s concentration in silicon, the charged particles concentration in plasma, and the floating potential of plasma, have been calculated. It is shown that the plasma affects the electrochemical potential of graphene under the condition that the charge of the Langmuir layer is of the order of the charge of the near-surface silicon layer. Regularities have been established for the growth of the electrochemical potential of graphene and the concentration of electrons in it with an increase in the surface potential of silicon and the charge of the Langmuir plasma layer. It is shown that with an increase in the surface potential of silicon, the electrochemical potential of graphene increases. The range of its change with the plasma charge is (0.2-4.15)kT when the charge of the Langmuir layer is varied in the range from 1.5 10-4 to 1.5 10-3 C/m2. As the charge of the Langmuir layer increases, the relative change in the electrochemical potential of graphene decreases, which is associated with an increase in the plasma contribution to the charge of graphene. A similar picture is observed for the electron concentration |
| Доп. сведения: | Секция 1. Процессы взаимодействия излучения и плазмы с твердым телом = Section 1. Processes of radiation and plasma interaction with solids |
| URI документа: | https://elib.bsu.by/handle/123456789/304292 |
| ISSN: | 2663-9939 (Print) 2706-9060 (Online) |
| Лицензия: | info:eu-repo/semantics/openAccess |
| Располагается в коллекциях: | 2023. Взаимодействие излучений с твердым телом |
Полный текст документа:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| 115-117.pdf | 378,07 kB | Adobe PDF | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.