Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/304266
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorЛейви, А. Я.
dc.contributor.authorФомина, Е. Ф.
dc.contributor.authorЯковлев, Е. В.
dc.date.accessioned2023-11-03T13:27:44Z-
dc.date.available2023-11-03T13:27:44Z-
dc.date.issued2023
dc.identifier.citationВзаимодействие излучений с твердым телом : материалы 15-й Междунар. конф., Минск, Беларусь, 26-29 сент. 2023 г. / Белорус, гос. ун-т ; редкол.: В. В. Углов (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2023. – С. 524-526.
dc.identifier.issn2663-9939 (Print)
dc.identifier.issn2706-9060 (Online)
dc.identifier.urihttps://elib.bsu.by/handle/123456789/304266-
dc.descriptionСекция 5. Методы, оборудование, плазменные и радиационные технологии = Section 5. Methods, equipment, plasma and radiation technologies
dc.description.abstractВ данной работе предложен способ нанесения тонких металлических покрытий, который включает в себя предварительную обработку подложки компрессионными плазменными потоками (КПП) с последующим циклическим процессом нанесения пленки методом магнетронного напыления, толщиной 100-250 нм, и обработкой системы пленка-подложка низкоэнергетическими сильноточными электронными пучками (НСЭП). Предложенный способ позволяет уменьшить конечную шероховатость поверхности пленки и обеспечивает хорошую адгезию материала пленки с материалом подложки
dc.language.isoru
dc.publisherМинск : БГУ
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
dc.titleСпособ нанесения тонких металлических покрытий при обработке интенсивными потоками энергии
dc.title.alternativeMethod for depositing thin metal coatings during treatment with intense energy flows / Artem Leivi, Ekaterina Fomina, Eugene Yakovlev
dc.typeconference paper
dc.description.alternativeIn this paper, we propose a method for applying thin metal coatings, which includes pre-treatment of the substrate with compression plasma flows, followed by a cyclic process of film deposition, by magnetron sputtering, with a thickness of 100–250 nm, and treatment of the film-substrate system with low-energy high-current electron beams. The proposed method makes it possible to reduce the final roughness of the film surface (Pa=0.6 μm) and shows good adhesion of the film material to the substrate material
Располагается в коллекциях:2023. Взаимодействие излучений с твердым телом

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
524-526.pdf499,25 kBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.