Импульсное реактивное магнетронное напыление термочувствительных пленок оксида ванадия

Abstract

Представлены результаты по получению термочувствительных пленок оксида ванадия (VOx) методом импульсного реактивного магнетронного распыления мишени из ванадия для их применения в микроболометрах. Установлены зависимости удельного электрического сопротивления, температурного коэффициента электрическиого сопротивления (ТКС) и изменения структуры пленок от процентного содержания кислорода (K(O2)) и частоты отрицательных импульсов при температуре подложки от 300 до 400 ℃. Установлено, что в общем случае, удельное сопротивление оксида ванадия, ТКС и размер зерна пленок VOx увеличиваются с увеличением частоты импульсов. Средние значения ТКС пленок VOx находились в диапазоне от 1.2 до 2.4 %/℃ при значениях удельного сопротивления 0.1-120 Ом·см. При более высоких температурах подложки как правило формируются пленки VOx с меньшим удельным сопротивлением. Однако ТКС при этом имеет более сложный характер зависимости, но в общем виде сохраняется принцип более высоких ТКС при более высоких удельных сопротивлениях. Повышение частоты отрицательных импульсов приводит к увеличению удельного сопротивления и размера зерен в пленках VOx