Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/292811Полная запись метаданных
| Поле DC | Значение | Язык |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Михалкович, О. М. | |
| dc.contributor.author | Барайшук, С. М. | |
| dc.contributor.author | Бобрович, О. Г. | |
| dc.date.accessioned | 2023-01-26T10:06:54Z | - |
| dc.date.available | 2023-01-26T10:06:54Z | - |
| dc.date.issued | 2022 | |
| dc.identifier.citation | Материалы и структуры современной электроники : материалы X Междунар. науч. конф., Минск, 12–14 окт. 2022 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2022. – С. 147-151. | |
| dc.identifier.isbn | 978-985-881-440-3 | |
| dc.identifier.uri | https://elib.bsu.by/handle/123456789/292811 | - |
| dc.description | Свойства, диагностика и применение полупроводниковых материалов и структур на их основе | |
| dc.description.abstract | Изучены морфология и гидрофильность поверхности металлических (Ti и Сo) пленок на кремнии после облучения ионами Xe+ и на стекле осажденных в условиях ассистирования собственными ионами. Показано, что облучения кремния ионами Xe с энергиями в диапазоне 10–40 кэВ и флюенсе 10 14 см−2 не вызывает изменения морфологии поверхности. С ростом времени осаждения пленок гидрофильность поверхности стекла снижается | |
| dc.description.sponsorship | Работа выполнена при финансовой поддержке Министерства образования Республики Беларусь № ГР 20211394 | |
| dc.language.iso | ru | |
| dc.publisher | Минск : БГУ | |
| dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess | |
| dc.subject | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика | |
| dc.title | Модификация поверхностных слоев кремния и стекла ионно-лучевым распылением титана и кобальта | |
| dc.title.alternative | Modification of surface layers of silicon and glass by ion-beam sputtering of titanium and cobalt / O. M. Mikhalkovich, S. M. Baraishuk, O. G. Bobrovich | |
| dc.type | conference paper | |
| dc.description.alternative | The morphology and hydrophilicity of the surface of metallic (Ti and Co) films on silicon irradiated with xenon ions and on glass deposited with self-ion assisted were studied. It has been shown that irradiation of silicon with Xe ions with energies in the range of 10–40 keV and a fluence of 10 14 cm–2 does not cause a change in the surface morphology. As the time of film deposition increases, the hydrophilicity of the glass surface decreases | |
| Располагается в коллекциях: | 2022. Материалы и структуры современной электроники | |
Полный текст документа:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| 147-151.pdf | 576,23 kB | Adobe PDF | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.