Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/274394
Заглавие документа: Повышение эффективности промышленного кремниевого солнечного элемента легированием никелем
Другое заглавие: Improving the efficiency of an industrial silicon solar cell by doping with nickel / M. K. Bakhadirkhanov, Z. T. Kenzhaev, B. K. Ismaylov, V. B. Odzhaev, U. S. Prasalovich, Yu. N. Yankovski
Авторы: Бахадырханов, М. К.
Кенжаев, З. Т.
Исмайлов, Б. К.
Оджаев, В. Б.
Просолович, В. С.
Янковский, Ю. Н.
Тема: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Дата публикации: 2021
Издатель: Минск : БГУ
Библиографическое описание источника: Журнал Белорусского государственного университета. Физика = Journal of the Belarusian State University. Physics. - 2021. - № 3. - С. 32-39
Аннотация: Исследована возможность корректировки эксплуатационных характеристик промышленных фотоэлементов производства фирмы Suniva на основе монокристаллического кремния посредством дополнительного диффузионного легирования их примесью никеля в интервале температур 700 –1200 °С. Показано, что оптимальная температура диффузии никеля Тдиф = 800 – 850 °С, в этом случае значение максимальной мощности Рmax возрастает на 20 –28 % по отношению к параметрам исходного промышленного фотоэлемента. При температурах диффузии Тдиф > 1000 °С происходит резкое уменьшение Рmax, что связано с увеличением глубины залегания р – n-перехода вследствие разгонки атомов фосфора при проведении высокотемпературной диффузии никеля. Положительный эффект диффузионного легирования никелем на электрофизические свойства фотоэлементов является наибольшим в том случае, когда примесные кластеры никеля находятся в области р – n-перехода, т. е. при диффузионном легировании в лицевую сторону пластины. Действие электрически нейтральных кластеров никеля менее выражено при их расположении в области изотипного p – p+-перехода, т. е. при диффузионном легировании в обратную сторону пластины.
Аннотация (на другом языке): The possibility of adjusting the operational parameters of industrial solar cells produced by the company Suniva based on monocrystalline silicon by means of additional diffusion doping with nickel in the temperature range 700 –1200 °C has been investigated. It is shown that the optimal temperature of nickel diffusion is Tdiff = 800 – 850 °C. In this case the value of the maximum power Pmax increases by 20 –28 % in relation to the parameters of the original industrial photocell. At diffusion temperatures Tdiff > 1000 °C, a sharp decrease in Pmax occurs, which is associated with an increase in the depth of the p – n junction due to the distillation of phosphorus atoms during high-temperature diffusion of nickel. The positive effect of diffusion alloying with nickel on the electrophysical parameters of photocells is greatest in the case when the nickel impurity clusters are in the region of the p – n junction, i. e. with diffusion alloying to the front side of the plate. The action of electrically neutral nickel clusters is less pronounced when they are located in the region of the isotypic p – p+ transition; in case of diffusion alloying with nickel in the opposite side of the plate.
URI документа: https://elib.bsu.by/handle/123456789/274394
ISSN: 2520-2243
DOI документа: 10.33581/2520-2243-2021-3-32-39
Лицензия: info:eu-repo/semantics/openAccess
Располагается в коллекциях:2021, №3

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
32-39.pdf540,79 kBAdobe PDFОткрыть
Показать полное описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.