Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/271727
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorИвашкевич, И. В.
dc.date.accessioned2021-11-12T07:30:53Z-
dc.date.available2021-11-12T07:30:53Z-
dc.date.issued2021
dc.identifier.citationКвантовая электроника : материалы XIII Междунар. науч.-техн. конференции, Минск, 22–26 ноября 2021 г. / БГУ, НИИ прикладных физических проблем им. А. Н. Севченко БГУ, Ин-т физики им. Б. И. Степанова НАН Беларуси, Белорусский республиканский фонд фундаментальных исследований ; [редкол.: М. М. Кугейко (отв. ред.), А. А. Афоненко, А. В. Баркова]. – Минск : БГУ, 2021. – С. 138-141.
dc.identifier.urihttps://elib.bsu.by/handle/123456789/271727-
dc.description.abstractПроведены исследования в видимой области спектра оптических свойств пленок оксида титана и их зависимость от условий формирования пленок методом ВЧ магнетронного напыления. Сравнительный анализ рассчитанных спектров показателя преломления показал, что в значительной мере на ход дисперсионных кривых оказывает температура подложки. Увеличение температуры подложки приводило к увеличению показателя преломления пленки. Еще одним фактором, влияющим на оптические свойства пленок оксида титана, оказался состав газовой среды, в которой происходит распыление мишени. Увеличение процентного содержания аргона в газовой смеси приводит к уменьшению показателя преломления пленки. Установлено наличие неоднородного переходного слоя между кремниевой подложкой и пленкой оксида титана
dc.language.isoru
dc.publisherМинск : БГУ
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
dc.subjectЭБ БГУ::ТЕХНИЧЕСКИЕ И ПРИКЛАДНЫЕ НАУКИ. ОТРАСЛИ ЭКОНОМИКИ::Электроника. Радиотехника
dc.titleСтруктурные и оптические свойства тонких пленок оксида титана на полупроводниковых подложках
dc.title.alternativeStructural and optical properties of titanium oxide thin films on semiconductor substrates / I. V. Ivashkevich
dc.typeconference paper
dc.identifier.deposit№ 010503112021, Деп. в БГУ 03.11.2021
dc.description.alternativeThe relationship between the optical properties of titanium oxide films and the conditions for the formation of these films by HF magnetron sputtering has been established. An increase in the substrate temperature leads to an increase in the refractive index of the film in the visible region of the spectrum. An increase in the percentage of argon in the gas mixture leads to a decrease in the refractive index of the film. The presence of an inhomogeneous transition layer between the silicon substrate and the titanium oxide film has been established
Располагается в коллекциях:2021. Квантовая электроника

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
138-141.pdf1,03 MBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.