Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/257269
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorКолесникова, Е. А.
dc.contributor.authorУглов, В. В.
dc.contributor.authorДрапезо, А. П.
dc.contributor.authorКулешов, А. К.
dc.contributor.authorРусальский, Д. П.
dc.date.accessioned2021-03-24T12:26:09Z-
dc.date.available2021-03-24T12:26:09Z-
dc.date.issued2020
dc.identifier.citationМатериалы и структуры современной электроники : материалы IX Междунар. науч. конф., Минск, 14–16 окт. 2020 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2020. – С. 65-70.
dc.identifier.isbn978-985-881-073-3
dc.identifier.urihttps://elib.bsu.by/handle/123456789/257269-
dc.descriptionСвойства, диагностика и применение полупроводниковых материалов и структур на их основе
dc.description.abstractВ работе рассматриваются структурные изменения и терморезистивные свойства плёнок антимонида индия на монокристаллических подложках арсенида галлия, полученных методом взрывного термического испарения, в зависимости от температуры осаждения. Было установлено, что тонкая плёнка антимонида индия, температура осаждения которой составляет 430–440 °С, имеет наибольшее значение температурного коэффициента сопротивления. Из плёнок, полученных в установленном интервале температур, были изготовлены опытные образцы тонкоплёночных терморезисторов со следующими характеристиками: номинальное сопротивление R 25 = (804 ± 0,12) Ом; температурный коэффициент сопротивления α = (−1,23 ± 0,02) %К-1; коэффициент температурной чувствительности B = (1090 ± 20) К
dc.description.sponsorshipРабота выполнена в рамках программы союзного государства «Технология-СГ» задание 2.3.2.2.
dc.language.isoru
dc.publisherМинск : БГУ
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
dc.titleСтруктура и терморезистивные свойства плёнок антимонида индия, полученных методом взрывного термического испарения
dc.title.alternativeStructure and thermalresistant properties of india antimonide films obtained by explosive thermal evaporation / E. A. Kolesnikova, V. V. Uglov, A. P. Drapezo, A. K. Kuleshov, D. P. Rusalsky
dc.typeconference paper
dc.description.alternativeExperimental results of the study of structural changes and thermoresistive properties of indium antimonide films on single-crystal gallium arsenide substrates obtained by explosive thermal evaporation, depending on the deposition temperature. It was found that a thin film of indium antimonide, the deposition temperature of which is 430–440 °C, has the highest value of the temperature coefficient of resistance. From the films obtained in the established temperature range, prototypes of thin-film thermistors with the following characteristics were made: nominal resistance R 25 = (804 ± 0,12) Om; temperature coefficient of resistance α = (−1,23 ± 0.02) %K-1; temperature sensitivity coefficient B = (1090 ± 20) K
Располагается в коллекциях:2020. Материалы и структуры современной электроники

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
65-70.pdf1,14 MBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.