Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/240520Полная запись метаданных
| Поле DC | Значение | Язык |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Uglov, V. V. | - |
| dc.contributor.author | Anishchik, V. M. | - |
| dc.contributor.author | Cherenda, N. N. | - |
| dc.contributor.author | Sveshnikov, Yu. V. | - |
| dc.contributor.author | Astashynski, V. M. | - |
| dc.date.accessioned | 2020-02-19T14:29:01Z | - |
| dc.date.available | 2020-02-19T14:29:01Z | - |
| dc.date.issued | 2005 | - |
| dc.identifier.citation | Surface & Coatings Technology 200 (2005) 297 – 300 | ru |
| dc.identifier.uri | http://elib.bsu.by/handle/123456789/240520 | - |
| dc.description.abstract | The process of the deposition of low-dimensional structures on the silicon surface exposed to the compression plasma flow has been studied. Scanning electron microscopy, transmission electron microscopy and Rutherford backscattering spectroscopy have been used to analyze the morphology, microstructure and elemental composition of the near-surface layer. The deposited coating consists of a spherical metal containing particles with a size of 50–200 nm. Possible mechanism of the coating formation is discussed. | ru |
| dc.language.iso | en | ru |
| dc.publisher | Elsevier B.V. | ru |
| dc.subject | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика | ru |
| dc.title | The formation of low-dimensional structures by compressive plasma flows | ru |
| dc.type | article | ru |
| dc.rights.license | CC BY 4.0 | ru |
| dc.identifier.DOI | 10.1016/j.surfcoat.2005.02.007 | - |
| Располагается в коллекциях: | Кафедра физики твердого тела и нанотехнологий (статьи) | |
Полный текст документа:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| SCT_200_2005_1.pdf | 639,68 kB | Adobe PDF | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.