Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/223934
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorМоховиков, М. А.-
dc.contributor.authorКомаров, Ф. Ф.-
dc.date.accessioned2019-07-16T09:39:49Z-
dc.date.available2019-07-16T09:39:49Z-
dc.date.issued2014-
dc.identifier.citationСборник научных работ студентов Республики Беларусь "НИРС 2013" / редкол. : А. И. Жук (пред.) [и др.]. - Минск : Изд. центр БГУ, 2014. - С. 28-32ru
dc.identifier.isbn978-985-553-227-0-
dc.identifier.urihttp://elib.bsu.by/handle/123456789/223934-
dc.language.isoruru
dc.publisherМинск : Изд. центр БГУru
dc.titleПроцессы формирования нанокристаллов А 3 В 5 и IV группы в структурах SiO 2 /Si методом высокодозной ионной имплантации и термообработокru
dc.typearticleru
dc.description.alternativeThe formation of tin nanoclusters as well as A 3 B 5 nanocrystals in SiO 2 /Si matrix using a high-dose implantation technique followed by high-temperature processing was studied. Structure and composition were studied by Rutherford backscattering spectroscopy and plan-view and cross-sectional transmission electron microscopy. In a case of the A 3 B 5 nanocrystals formation a broad photoluminescence band with the maximum of 0.99 eV is registered. It has been found that postimplantation annealing results in the β-Sn precipitation as well as the formation of SnO 2 -enriched regions in SiO 2 :Sn matrix. The rest of the impurity is dissolved in the matrix of SiO2ru
Располагается в коллекциях:Сборник научных работ студентов Республики Беларусь "НИРС 2013"

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
28-32.pdf476,28 kBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.