Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/215246| Заглавие документа: | Исследование кинетики роста и оптических свойств DLC покрытий при разложении ацетилена в низкотемпературной высокоплотной плазме индукционного разряда |
| Другое заглавие: | Research of growth kinetics and optical properties of DLC coatings in the decomposition of acetylene in a low-temperature high-density plasma of an induction discharge / A. A. Kovalevskiy, D. A. Kotov, K. A. Korzun, A. A. Yasunas, S. V. Granko |
| Авторы: | Ковалевский, А. А. Котов, Д. А. Корзун, К. А. Ясюнас, А. А. Гранько, С. В. |
| Тема: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
| Дата публикации: | 2018 |
| Издатель: | Минск : БГУ |
| Библиографическое описание источника: | Материалы и структуры современной электроники : материалы VIII Междунар. науч. конф., Минск, 10–12 окт. 2018 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2018. – С. 255-261. |
| Аннотация: | Исследованы кинетика роста и оптические свойства алмазоподобных углеродных (DLC) покрытий при разложении ацетилена в низкотемпературной высокоплотной плазме индукционного разряда. Установлено, что основными факторами, влияющими на скорость осаждения и оптические свойства наноструктурированных алмазоподобных покрытий в высокоплотной плазме индукционного разряда, являются: тип прекурсоров, качество исходной подложки, общее давление газовой смеси, парциальное давление каждого из прекурсоров и величина подводимой к разряду ВЧ-мощности. |
| Аннотация (на другом языке): | Growth kinetics and optical properties of diamond-like carbon (DLC) coatings in the decomposition of acetylene in a low-temperature high-density plasma of an induction discharge have been studied. It has been established that the main factors influencing deposition rate and optical properties of nanostructured diamond-like coatings in high-density plasma of induction discharge are the type of precursors, the quality of the initial substrate, the total pressure of the gas mixture, the partial pressure of each of the precursors, and the amount of RF power supplied to the discharge. |
| Доп. сведения: | Нанотехнологии, наноструктуры, квантовые явления. Наноэлектроника. Приборы на квантовых эффектах |
| URI документа: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/215246 |
| ISBN: | 978-985-566-671-5 |
| Располагается в коллекциях: | 2018. Материалы и структуры современной электроники |
Полный текст документа:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| 255-261.pdf | 392,74 kB | Adobe PDF | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.