Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/215239
Полная запись метаданных
Поле DC | Значение | Язык |
---|---|---|
dc.contributor.author | Гурбо, А. Д. | |
dc.contributor.author | Бондаренко, В. П. | |
dc.date.accessioned | 2019-02-21T13:28:20Z | - |
dc.date.available | 2019-02-21T13:28:20Z | - |
dc.date.issued | 2018 | |
dc.identifier.citation | Материалы и структуры современной электроники : материалы VIII Междунар. науч. конф., Минск, 10–12 окт. 2018 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2018. – С. 231-235. | |
dc.identifier.isbn | 978-985-566-671-5 | |
dc.identifier.uri | http://elib.bsu.by/handle/123456789/215239 | - |
dc.description | Нанотехнологии, наноструктуры, квантовые явления. Наноэлектроника. Приборы на квантовых эффектах | |
dc.description.abstract | Методом электрохимического анодирования в электролите на основе фтористо-водородной кислоты на кремниевых подложках электронного типа проводимости получены слои пористого кремния. Изучено влияние температуры электролита и плотности тока анодирования на скорость роста и пористость пористого кремния. | |
dc.language.iso | ru | |
dc.publisher | Минск : БГУ | |
dc.subject | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика | |
dc.title | Формирование мезопористого кремния в охлажденном электролите | |
dc.title.alternative | Formation of mesoporous silicon in the cooled electrolyte / A. D. Hurbo, V. P. Bondarenko | |
dc.type | conference paper | |
dc.description.alternative | Using the method of electrochemical anodization in a solution based on hydrofluoric acid were obtained layres of porous silicon on the n-type wafers. The influence of temperature and current density on the growth rate and porosity of porous silicon was studied. | |
Располагается в коллекциях: | 2018. Материалы и структуры современной электроники |
Полный текст документа:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
231-235.pdf | 1,29 MB | Adobe PDF | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.