Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/215217
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorВеличко, О. И.
dc.date.accessioned2019-02-21T13:28:16Z-
dc.date.available2019-02-21T13:28:16Z-
dc.date.issued2018
dc.identifier.citationМатериалы и структуры современной электроники : материалы VIII Междунар. науч. конф., Минск, 10–12 окт. 2018 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2018. – С. 146-149.
dc.identifier.isbn978-985-566-671-5
dc.identifier.urihttp://elib.bsu.by/handle/123456789/215217-
dc.descriptionДефектно-примесная инженерия. Радиационные эффекты в полупроводниках
dc.description.abstractПроведено моделирование процессов кластерообразоваиия атомов фосфора и бора при термической диффузии в кристаллическом кремнии. Сравнение с экспериментом позволило определить зарядовые состояния кластеров и другие особенности процессов кластерообразования.
dc.language.isoru
dc.publisherМинск : БГУ
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
dc.titleПроцессы кластерообразования фосфора и бора в кремнии
dc.title.alternativePhosphorus and boron clustering in silicon / O. I. Velichko
dc.typeconference paper
dc.description.alternativeThe modeling of clustering of phosphorus and boron atoms in the course of thermal diffusion in crystalline silicon was carried out. The charge states of clusters and other specific features of clustering were obtained from the comparison with experimental data.
Располагается в коллекциях:2018. Материалы и структуры современной электроники

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
146-149.pdf572,92 kBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.