Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/215207
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorПокотило, Ю. М.
dc.contributor.authorПетух, А. Н.
dc.contributor.authorСмирнова, О. Ю.
dc.contributor.authorГайдук, П. И.
dc.contributor.authorМаркевич, В. П.
dc.contributor.authorКоролик, О. В.
dc.contributor.authorМазаник, А. В.
dc.contributor.authorЗлоцкий, С. В.
dc.date.accessioned2019-02-21T13:28:14Z-
dc.date.available2019-02-21T13:28:14Z-
dc.date.issued2018
dc.identifier.citationМатериалы и структуры современной электроники : материалы VIII Междунар. науч. конф., Минск, 10–12 окт. 2018 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2018. – С. 104-107.
dc.identifier.isbn978-985-566-671-5
dc.identifier.urihttp://elib.bsu.by/handle/123456789/215207-
dc.descriptionСвойства, диагностика и применение полупроводниковых материалов и структур на их основе
dc.description.abstractМетодами комбинационного рассеяния света (КРС) и рентгеноструктурного анализа исследованы дефекты структуры в монокристаллах твердых растворов Si1-xGex , выращенных методом вытягивания из расплава и электронно-лучевой плавки, а также в пленках, полученных методом молекулярно лучевой эпитаксии. Показано, что смещение пиков КРС, обусловленных колебаниями связей Si-Si, Si-Ge и Ge-Ge, определяются уменьшением параметра решетки при возрастании доли германия в твердом растворе.
dc.description.sponsorshipИсследования проводились при частичной финансовой поддержке БРФФИ в рамках проекта № Т18Р-190.
dc.language.isoru
dc.publisherМинск : БГУ
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
dc.titleСдвиг полос комбинационного рассеяния света в твердых растворах кремний – германий при изменении их компонентного состава имплантацией ионов никеля
dc.title.alternativeShifting of the bands of combination light scattering in silicon-germany solid solutions with changing their component composition / Yu. М. Pokotiliо, А. N. Petukh, О. Yu. Smirnova, P. I. Gaiduk, V. P. Markevich, О. V. Korolik, А. V. Mazanik, С. V. Zlotsky
dc.typeconference paper
dc.description.alternativeThe structural defects both in single crystals of Si1-xGex solid solutions grown by the melt-drawing and electron-beam melting method, and in films obtained by molecular beam epitaxy, were studied by Raman scattering and X-ray diffraction methods. It is shown that the shift in the Raman peak due to the vibrations of the Si-Si, Si-Ge, and Ge-Ge bonds is determined by the decrease in the lattice parameter as the share of germanium in the solid solution increases.
Располагается в коллекциях:2018. Материалы и структуры современной электроники

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
104-107.pdf373,06 kBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.