Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/208223
Заглавие документа: | Физико-химические свойства тонких пленок термического диоксида кремния, подвергнутого ионному облучению |
Другое заглавие: | Physical and chemical propertyes of the thermal thin SiO2 films irradiated with ion beams / S.V. Gran'ko, V.A. Emelyanov, A.M. Kisel, A.V. Leontyev, A.V. Medvedyeva, V I. Plebanovich |
Авторы: | Гранько, С. В. Емельянов, В. А. Кисель, А. М. Леонтьев, А. В. Медведева, А. В. Плебанович, В. И. |
Тема: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
Дата публикации: | 2003 |
Издатель: | Минск : БГУ |
Библиографическое описание источника: | Взаимодействие излучений с твердым телом: материалы V междунар. науч. конф., 6-9 окт. 2003 г., Минск. — Мн.: БГУ, 2003. — С. 234-236. |
Аннотация: | Представлены результаты исследования влияния ионного облучения на физико-химические свойства термически выращенного оксида кремния. Показано, что скорость травления SiO2 зависит от условий ионной бомбардировки, подобраны оптимальные условия ионной обработки для БиКМОП-технологического процесса. |
Аннотация (на другом языке): | The physical and chemical properties of the thermal thin SiO2 films irradiated with ion beams are discussed |
URI документа: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/208223 |
ISBN: | 985-445-236-0; 985-445-235-2 |
Располагается в коллекциях: | 2003. Взаимодействие излучений с твердым телом |
Полный текст документа:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
234-236.pdf | 2,79 MB | Adobe PDF | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.