Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/208223
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorГранько, С. В.-
dc.contributor.authorЕмельянов, В. А.-
dc.contributor.authorКисель, А. М.-
dc.contributor.authorЛеонтьев, А. В.-
dc.contributor.authorМедведева, А. В.-
dc.contributor.authorПлебанович, В. И.-
dc.date.accessioned2018-11-06T06:15:31Z-
dc.date.available2018-11-06T06:15:31Z-
dc.date.issued2003-
dc.identifier.citationВзаимодействие излучений с твердым телом: материалы V междунар. науч. конф., 6-9 окт. 2003 г., Минск. — Мн.: БГУ, 2003. — С. 234-236.ru
dc.identifier.isbn985-445-236-0; 985-445-235-2-
dc.identifier.urihttp://elib.bsu.by/handle/123456789/208223-
dc.description.abstractПредставлены результаты исследования влияния ионного облучения на физико-химические свойства термически выращенного оксида кремния. Показано, что скорость травления SiO2 зависит от условий ионной бомбардировки, подобраны оптимальные условия ионной обработки для БиКМОП-технологического процесса.ru
dc.language.isoruru
dc.publisherМинск : БГУru
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физикаru
dc.titleФизико-химические свойства тонких пленок термического диоксида кремния, подвергнутого ионному облучениюru
dc.title.alternativePhysical and chemical propertyes of the thermal thin SiO2 films irradiated with ion beams / S.V. Gran'ko, V.A. Emelyanov, A.M. Kisel, A.V. Leontyev, A.V. Medvedyeva, V I. Plebanovichru
dc.typeconference paperru
dc.description.alternativeThe physical and chemical properties of the thermal thin SiO2 films irradiated with ion beams are discussedru
Располагается в коллекциях:2003. Взаимодействие излучений с твердым телом

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
234-236.pdf2,79 MBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.