Logo BSU

Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.bsu.by/handle/123456789/208223
Title: Физико-химические свойства тонких пленок термического диоксида кремния, подвергнутого ионному облучению
Other Titles: Physical and chemical propertyes of the thermal thin SiO2 films irradiated with ion beams / S.V. Gran'ko, V.A. Emelyanov, A.M. Kisel, A.V. Leontyev, A.V. Medvedyeva, V I. Plebanovich
Authors: Гранько, С. В.
Емельянов, В. А.
Кисель, А. М.
Леонтьев, А. В.
Медведева, А. В.
Плебанович, В. И.
Keywords: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Issue Date: 2003
Publisher: Минск : БГУ
Citation: Взаимодействие излучений с твердым телом: материалы V междунар. науч. конф., 6-9 окт. 2003 г., Минск. — Мн.: БГУ, 2003. — С. 234-236.
Abstract: Представлены результаты исследования влияния ионного облучения на физико-химические свойства термически выращенного оксида кремния. Показано, что скорость травления SiO2 зависит от условий ионной бомбардировки, подобраны оптимальные условия ионной обработки для БиКМОП-технологического процесса.
Abstract (in another language): The physical and chemical properties of the thermal thin SiO2 films irradiated with ion beams are discussed
URI: http://elib.bsu.by/handle/123456789/208223
ISBN: 985-445-236-0; 985-445-235-2
Appears in Collections:2003. Взаимодействие излучений с твердым телом

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
234-236.pdf2,79 MBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar



PlumX

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.