Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/208223
Заглавие документа: Физико-химические свойства тонких пленок термического диоксида кремния, подвергнутого ионному облучению
Другое заглавие: Physical and chemical propertyes of the thermal thin SiO2 films irradiated with ion beams / S.V. Gran'ko, V.A. Emelyanov, A.M. Kisel, A.V. Leontyev, A.V. Medvedyeva, V I. Plebanovich
Авторы: Гранько, С. В.
Емельянов, В. А.
Кисель, А. М.
Леонтьев, А. В.
Медведева, А. В.
Плебанович, В. И.
Тема: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Дата публикации: 2003
Издатель: Минск : БГУ
Библиографическое описание источника: Взаимодействие излучений с твердым телом: материалы V междунар. науч. конф., 6-9 окт. 2003 г., Минск. — Мн.: БГУ, 2003. — С. 234-236.
Аннотация: Представлены результаты исследования влияния ионного облучения на физико-химические свойства термически выращенного оксида кремния. Показано, что скорость травления SiO2 зависит от условий ионной бомбардировки, подобраны оптимальные условия ионной обработки для БиКМОП-технологического процесса.
Аннотация (на другом языке): The physical and chemical properties of the thermal thin SiO2 films irradiated with ion beams are discussed
URI документа: http://elib.bsu.by/handle/123456789/208223
ISBN: 985-445-236-0; 985-445-235-2
Располагается в коллекциях:2003. Взаимодействие излучений с твердым телом

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
234-236.pdf2,79 MBAdobe PDFОткрыть
Показать полное описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.