Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/206851
Заглавие документа: Отжиг радиационных дефектов в имплантированном ионами Yb+ кремнии
Другое заглавие: Radiation defects annealing in Yb+ ions implanted silicon / D.l. Brinkevich, V.V. Samokhval, V.S. Prosolovich, Yu.N. Yankovski
Авторы: Бринкевич, Д. И.
Просолович, В. С.
Самохвал, В. В.
Янковский, Ю. Н.
Тема: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Дата публикации: 2003
Издатель: Минск : БГУ
Библиографическое описание источника: Взаимодействие излучений с твердым телом: материалы V междунар. науч. конф., 6-9 окт. 2003 г., Минск. — Мн.: БГУ, 2003. — С. 105-107.
Аннотация: Методами эффекта Холла в сочетании с последовательным удалением слоев и обратного резерфордовского рассеяния исследовалось поведение радиационных дефектов при постимплантационном отжиге имплантированных ионами Yb монокристаллов кремния. Показано, что иттербий оказывает существенное влияние на процессы активации легирующей примеси фосфора. Максимум распределения дефектов в процессе термообработки Si:Yb смещается к поверхности. На эффективность отжига дефектов существенное влияние также оказывает дополнительное внедрение основных легирующих примесей B, P и Sb.
Аннотация (на другом языке): Defects annealing processes at heat treatment of Yb* ions implanted silicon were studied by Hall effect and Rutherford back scattering methods. It is shown that ytterbium significantly influence on phosphorus activation processes. Maximum of defects distribution in Si:Yb displace to the surface at heat treatment. Additional implantation of doping impurities B, P and Sb also significantly influence on defects annealing efficiency.
URI документа: http://elib.bsu.by/handle/123456789/206851
ISBN: 985-445-236-0; 985-445-235-2
Располагается в коллекциях:2003. Взаимодействие излучений с твердым телом

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
105-107.pdf2,88 MBAdobe PDFОткрыть
Показать полное описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.