Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/204264Full metadata record
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Бурмаков, А. П. | - |
| dc.contributor.author | Игнатенко, И. И. | - |
| dc.contributor.author | Коротков, К. Б. | - |
| dc.contributor.author | Чёрный, В. Е. | - |
| dc.date.accessioned | 2018-08-27T06:55:45Z | - |
| dc.date.available | 2018-08-27T06:55:45Z | - |
| dc.date.issued | 1999 | - |
| dc.identifier.citation | Взаимодействие излучений с твердым телом: Материалы III междунар. науч. конф., 6-8 окт. 1999 г., Минск: В 2 ч. Ч.1. — Мн.: БГУ, 1999. — С. 50-51. | ru |
| dc.identifier.isbn | 985-445-236-0 | - |
| dc.identifier.uri | http://elib.bsu.by/handle/123456789/204264 | - |
| dc.description.abstract | Предложена структура системы управления расходами рабочих газов технологических установок ионно-лучевого и ионно-плазменного нанесения многослойных покрытий. Система обеспечивает постоянство давления и состава смеси рабочих газов в вакуумной камере при работе магнетронных распылителей, постоянство ионного и разрядного тока ионно-лучевых распылителей. Описаны возможности работы системы в автономном режиме и в случае связи системы с управляющей ЭВМ. | ru |
| dc.language.iso | ru | ru |
| dc.publisher | Минск : БГУ | ru |
| dc.subject | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика | ru |
| dc.title | Контроллер управления расходами газов в технологических процессах ионно-плазменного и ионно-лучевого осаждения многослойных покрытий | ru |
| dc.title.alternative | Gases flow rate control device in the technological processes of ion-plasma and ion-beam deposition of multi-layer coatings / A. Burmakov, V. Chorny, I. Ignatenko, K. Korotkov | ru |
| dc.type | conference paper | ru |
| dc.description.alternative | The structure of decentralized control of various purposes technological units of ion-beam and ion-plasma multi-layer coatings deposition is considered. Block diagram of working gases flow rate control system of such units is given. The system provides constant level of pressure and working gases mixture composition in vacuum chamber during magnetron sputtering systems. This document has been edited with Infix PDF Editor - free for non-commercial use. To remove this notice, visit: www.iceni.com/unlock.htm | ru |
| Appears in Collections: | 1999. Взаимодействие излучений с твердым телом | |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.