Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/196102| Title: | Проблемы применения фоторезистивных масок в технологии КМОП-интегральных схем |
| Authors: | Деркач, Александр Николаевич Гранько, Сергей Владимирович Комаров, Фадей Фадеевич Леонтьев, Александр Викторович Сугакова, Татьяна Евгеньевна |
| Keywords: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
| Issue Date: | 2001 |
| Publisher: | Минск : БГУ |
| Citation: | Вестник Белорусского государственного университета. Сер. 1, Физика. Математика. Информатика. – 2001. - № 1. – С. 26-31. |
| Abstract: | The problem questions of the ion beam masking in microelectronics are considered. It shown, that the decision of the put task consists of two parts: a choice of optimum thickness of a protective mask and control of the technological defect. |
| URI: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/196102 |
| ISSN: | 0321-0367 |
| Licence: | info:eu-repo/semantics/openAccess |
| Appears in Collections: | 2001, №1 (январь) |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.