Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/196102| Заглавие документа: | Проблемы применения фоторезистивных масок в технологии КМОП-интегральных схем |
| Авторы: | Деркач, Александр Николаевич Гранько, Сергей Владимирович Комаров, Фадей Фадеевич Леонтьев, Александр Викторович Сугакова, Татьяна Евгеньевна |
| Тема: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
| Дата публикации: | 2001 |
| Издатель: | Минск : БГУ |
| Библиографическое описание источника: | Вестник Белорусского государственного университета. Сер. 1, Физика. Математика. Информатика. – 2001. - № 1. – С. 26-31. |
| Аннотация: | The problem questions of the ion beam masking in microelectronics are considered. It shown, that the decision of the put task consists of two parts: a choice of optimum thickness of a protective mask and control of the technological defect. |
| URI документа: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/196102 |
| ISSN: | 0321-0367 |
| Лицензия: | info:eu-repo/semantics/openAccess |
| Располагается в коллекциях: | 2001, №1 (январь) |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.