Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/185926
Title: | Морфология поверхности пленок теллурида кадмия, полученных методом вакуумного напыления на подложках из кремния и теллурида кадмия |
Other Titles: | Surface morphology of cadmium telluride films prepared by vacuum sputtering on the silicon and cadmium telluride substrates / A. T. Akobirova, V. I. Halauchyk, M. G. Lukashevich, N. S. Sultonov, R. B. Hamroqulov |
Authors: | Акобирова, А. Т. Головчук, В. И. Лукашевич, М. Г. Султонов, Н. С. Хамрокулов, Р. Б. |
Keywords: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
Issue Date: | 2017 |
Publisher: | Минск : БГУ |
Citation: | Журнал Белорусского государственного университета. Физика = Journal of the Belarusian State University. Physics. - 2017. - № 2. - С. 69-75 |
Abstract: | Методами атомно-силовой и растровой электронной микроскопии и рентгеноструктурного анализа исследована морфология поверхности пленок теллурида кадмия, полученных на кремниевых подложках и подложках монокристаллического теллурида кадмия путем напыления в квазизамкнутом объеме. Показана возможность синтеза поликристаллических пленок с разным размером зерна и различной шероховатостью, изменяющимися в интервале от 2,5 до 5,0 мкм и от 34,1 до 87,5 нм соответственно. Обработка пленок бромбутиловым травителем приводит к изменению шероховатости поверхности до 17,9 нм. Элементный состав приповерхностного слоя пленки определялся методом рентгеноспектрального микроанализа, а структура – с помощью рентгеновского дифрактометра. = The results of atomic-force and scan electron microscopy of cadmium telluride films prepared on silicon and monocrystall in cadmium telluride substrates by means of sputtering in quasi-closed volume are presented. It is shown that mean grain size of the obtained films ranging in the interval 2.5–5.0 m with roughness of the films changing in the range 34,1–87,5 nm. Etching of films bromine-butyl etchant results in improved surface morphology and roughness of the film reduces to 17.9 nm. The elemental composition of the film surface layer was determined by X-ray microanalysis and structure by X-ray diffractometer. |
URI: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/185926 |
ISSN: | 2520-2243 |
Licence: | info:eu-repo/semantics/openAccess |
Appears in Collections: | 2017, №2 |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.