Морфология поверхности пленок теллурида кадмия, полученных методом вакуумного напыления на подложках из кремния и теллурида кадмия

Abstract

Методами атомно-силовой и растровой электронной микроскопии и рентгеноструктурного анализа исследована морфология поверхности пленок теллурида кадмия, полученных на кремниевых подложках и подложках монокристаллического теллурида кадмия путем напыления в квазизамкнутом объеме. Показана возможность синтеза поликристаллических пленок с разным размером зерна и различной шероховатостью, изменяющимися в интервале от 2,5 до 5,0 мкм и от 34,1 до 87,5 нм соответственно. Обработка пленок бромбутиловым травителем приводит к изменению шероховатости поверхности до 17,9 нм. Элементный состав приповерхностного слоя пленки определялся методом рентгеноспектрального микроанализа, а структура – с помощью рентгеновского дифрактометра. = The results of atomic-force and scan electron microscopy of cadmium telluride films prepared on silicon and monocrystall in cadmium telluride substrates by means of sputtering in quasi-closed volume are presented. It is shown that mean grain size of the obtained films ranging in the interval 2.5–5.0 m with roughness of the films changing in the range 34,1–87,5 nm. Etching of films bromine-butyl etchant results in improved surface morphology and roughness of the film reduces to 17.9 nm. The elemental composition of the film surface layer was determined by X-ray microanalysis and structure by X-ray diffractometer.